【长江化工】光刻胶系列陈述（二）：波及哪些原辅料，原土企业阐扬如何？ ———————————————

　　光刻胶是光刻的中枢材料，工夫壁垒高，其中运用于集成电路的光刻胶是我国半导体产业中枢的“卡脖子”材料，光刻胶主要由成膜树脂、增感剂、活性单体、溶剂和助剂构成，搭配显影液、剥离液等配套试剂使用。与光刻胶本人相同，其原辅料亦较依赖入口。

　　单体：用于树脂团聚，合成难度大、纯度及金属离子条款高，产业化贵重，依赖入口。【徐州博康】（华懋科技参股）单体工夫储备充分，居品外售至日韩；【万润股份】具备联系居品。

　　树脂：是最迫切的构成部分，以ArF光刻胶为例，其树脂质料占比仅5-10%，但资本占光刻胶原材料总资本的97%以上。国内企业如【圣泉集团】、【徐州博康】、【彤程新材】、【万润股份】均有布局。

　　溶剂：含量占比最高，ArF光刻胶中约达94.4%，全体原土化供应进度高，PMA（丙二醇甲醚醋酸酯）份额遥遥逾越，国内上市公司【百川股份】、【怡达股份】均有布局。

　　光敏材料：是构成要素中“对光敏锐”的化合物，曝光下领悟，产生质子酸催化树脂分子链发生脱保护响应，从而转换曝光区域的熔解性，国产化率低，【强力新材】、【久日新材】等有所布局。

队伍中的老画家韩硕说：“写生的作用是任何其他手段都无法替代的，能给予画家对世界万物最真切的感受和思考。”从上世纪60年代起，上海中国画院成立后，画师们集体写生历来是一项传统。围绕年展的主题创作，画院老中青三代画师踏上了古丝绸之路，从玉门关到嘉峪关，从戈壁沙漠到黄河石林，不辞跋山涉水的辛劳，不畏风吹日晒的炙热，热情投入到主题创作写生采风中。

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　　配套试剂：主要为显影液和剥离液。显影液主要用于光刻胶熔解，正胶一般使用TMAH动作显影液，【格林达】有所布局。剥离液用于去除光刻胶及残留物志，【江化微】、【晶瑞电材】等繁密企业布局。

　　大国博弈愈演愈烈滨海湾金沙赌场，半导体中枢原料自主可控事关迫切，提出讲理光刻胶产业链联系目的投资契机。